在專利確權(quán)階段，技術(shù)方案能夠獲得授權(quán)，不僅依靠技術(shù)方案本身所具有的新創(chuàng)性，還依賴權(quán)利要求淋漓盡致的體現(xiàn)發(fā)明構(gòu)思，以彰顯技術(shù)方案所具有的突出的實(shí)質(zhì)性特點(diǎn)以及顯著進(jìn)步。同時(shí)，在專利行權(quán)階段，權(quán)利要求所界定的保護(hù)范圍，也很大程度上決定了專利權(quán)人能否成功贏得專利訴訟。因此，權(quán)利要求的撰寫質(zhì)量，影響著專利的整個(gè)生命歷程。
那衡量權(quán)利要求的撰寫質(zhì)量的標(biāo)準(zhǔn)是什么？是在權(quán)利要求中對技術(shù)交底書中的技術(shù)描述的還原程度？亦或是對權(quán)利要求進(jìn)行上位的抽象程度？實(shí)際上，這兩種是撰寫權(quán)利要求的兩個(gè)極端。過分的依賴技術(shù)交底書中的描述，容易被實(shí)施例迷惑，從而導(dǎo)致撰寫出的權(quán)利要求的保護(hù)范圍較小，未能保護(hù)同一發(fā)明構(gòu)思下的規(guī)避方案，使得專利權(quán)人的利益受損。而過分的追求上位，容易出現(xiàn)撰寫出的權(quán)利要求存在不清楚的問題，權(quán)利要求不符合專利法第26條第4款的規(guī)定，影響專利獲權(quán)。
其實(shí)，評估權(quán)利要求的撰寫質(zhì)量高低，重點(diǎn)是要兼顧體現(xiàn)發(fā)明構(gòu)思以及界定合適的保護(hù)范圍。撰寫高質(zhì)量的權(quán)利要求，前提是要做到透過現(xiàn)象看本質(zhì)，即，透過交底書中所描述的技術(shù)方案這一現(xiàn)象，明確該技術(shù)方案所表達(dá)的發(fā)明本質(zhì)。
所謂的發(fā)明本質(zhì)，權(quán)利要求與通常所說的發(fā)明構(gòu)思有異曲同工之處。但是，往細(xì)了說，發(fā)明構(gòu)思是理解發(fā)明的一種抽象概念，而發(fā)明本質(zhì)是指解決技術(shù)問題的“關(guān)鍵”，這個(gè)“關(guān)鍵”包括發(fā)明人發(fā)現(xiàn)產(chǎn)生技術(shù)問題的根因、以及針對該根因所創(chuàng)造性提出的解決問題的功能性手段。
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